《电子工业专用设备》是由中国信息产业部主管,中国电子科技集团公司第四十五研究所主办,中国电子专用设备工业协会会刊;是业内最具权威的国内外公开发行的国家级刊物。本刊1971年创刊,已走过了三十多年的历程,作为信息平台一直以作风严谨、权威著述在业界颇具影响力。
办刊宗旨:引领产业发展,促进行业交流,推广产品应用。
杂志定位:加强国际技术的交流与合作,促进产品与市场相结合,面向整个电子设备、生产行业的管理者、电子工程师、采购人员和市场开发人员,全面介绍专用设备领域内的新产品,新技术,新动态。保持刊物的国际性、权威性、实用性。
编辑:本刊拥有一批高素质,严要求的编辑队伍,办刊30多年来积累了一批由多年从事电子专用设备研究的资深专家、学者和企业核心电子工程师组成的编委会成员,在确保刊物办得精、深、广的同时,保留新、专的特性。同时积累了一批在设备领域颇具名望的领导者、知名院士、政府部门主管组成的编辑指导委员会,对刊物进行严格指导和审核,使我们的刊物朝着健康正确的方向发展。
栏目设置:专题报道、专家论坛、发展与趋势、(技术动向)、行业动态、(业界要闻)、新设备新工艺、(论文研制)、制造与工艺、市场与应用、企业之窗、产品撷英。
本刊主要资助项目有:国家自然科学基金、国家高技术研究发展计划、国家科技重大专项、国家重点基础研究发展计划、海南省自然科学基金、湖南省自然科学基金、国家火炬计划、国防基础科研计划、电子信息产业发展基金、国际科技合作与交流专项项目。
本刊主要资助课题有:国家高技术研究发展计划(2005AA404210)、国家科技重大专项(2009ZX02011-005A)、国家自然科学基金(60576053)、国家高技术研究发展计划(2009AA043103)、国家科技重大专项(2012ZX04001-022)、国家高技术研究发展计划(20094A043103)、国家高技术研究发展计划(2002AA311243)、国家自然科学基金(50390064)、国家火炬计划(2003EB041301)、国家科技重大专项(2009ZX02010-17)。
1.关键词:一般每篇论文标引2~5个关键词。请尽量使用美国国立医学图书馆编辑的最新版IndexMedicus中医学主题词表(MesH)内所列的词。必要时,可采用习用的自由词并排列于最后。
2.正文按“前言、资料(对象)与方法、结果、讨论”的顺序书写,为一级标题;以下各级小标题按照:一、(一)、1.安排序号。
3.注释一律采用脚注。脚注用小五宋体,包括文献作者、文献题名、出版社及出版年或期刊的年(卷)、起止页码,用带圆圈的阿拉伯数字序号标注,每页单独编号。
4.作者须按作图数据绘图。曲线一般经曲线拟合并尽可能“直线化”,如通过对数、倒数等转换,直线应根据回归方程绘图。
5.本刊自发表之日起,如无电子版、网络版、有声版等方面的特殊说明,即视作投稿者同意授权本刊电子版、网络版、有声版等的复制权、汇编权、翻译权、信息网络传播权及其转授权等专著权。
机构名称 | 发文量 | 主要研究主题 |
中国电子科技集团公司 | 642 | 半导体;单晶;化学机械抛光;机械抛光;晶圆 |
中国电子科技集团公司第二研究... | 221 | 真空;电池;太阳能;封装;低温共烧陶瓷 |
中国电子科技集团公司第四十八... | 154 | 电池;太阳能电池;太阳能;均匀性;离子注入 |
中国电子科技集团公司第四十五... | 142 | 半导体;光刻;电路;集成电路;湿法 |
电子工业部 | 115 | 半导体;光刻;曝光机;切片;切片机 |
北京中电科电子装备有限公司 | 90 | 晶圆;划片;划片机;键合;封装 |
中华人民共和国工业和信息化部 | 77 | 光刻;电路;电子专用设备;集成电路;半导体 |
中国电子科技集团第十三研究所 | 61 | 光刻;刻蚀;光刻机;投影光刻;投影光刻机 |
中国科学院 | 55 | 光刻;光刻机;电路;半导体;电子束曝光 |
天水华天科技股份有限公司 | 52 | 封装;可靠性;电路;集成电路;芯片 |
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主编:葛劢翀
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电子工业专用设备杂志是一本部级期刊,是由中国电子科技集团公司主管,中国电子科技集团公司第四十五研究所主办的一本电子类期刊。国内刊号:62-1077/TN,国际刊号:1004-4507。该期刊详细信息可以在国家新闻出版总署网站上查询。
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